北京PMMA光学镀膜-仁睿电子-PMMA光学镀膜成品
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若是空气的折射率是 1.0 ，镀膜的折射率nc (例如：1.5) ，玻璃的折射率n (例如：1.8)（1）由空气直接进入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%IAD工艺不但生产比常规镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。夹具绕公共轴旋转，同时绕其自身轴旋转。光控和晶控处于行星驱动机械装置的中部，驱动轴遮挡晶控。
什么是镀膜？薄膜沉积（镀膜）是在基底材料上形成和沉积薄膜涂层的过程，在基片上沉积各种材料的薄膜是微纳加工的重要手段之一，薄膜具有许多不同的特性，可用来改变或改善基材性能的某些要素。例如，透明，耐用且耐刮擦；增加或减少电导率或信号传输等。薄膜沉积厚度范围从纳米级到微米级。常用的薄膜沉积工艺是物理气相沉积（PVD）与化学气相沉积（CVD）。
在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。等离子溅射包括一系列已知技术，包括先进等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，然后溅射到目标光学元件上。
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